2021甲基磺酸的發展方向及應用

甲基磺酸是一種苛性化學物質，簡稱MSA。70%甲基磺酸主要用于電鍍領域、樹脂催化劑、電子清洗劑，在電鍍領域有著廣泛的應用前景，已被證明是氟硼酸或酚磺酸的良好替代物：甲基磺酸廠甲基磺酸鹽電鍍液大量應用于錫和錫鉛合金電鍍上，甲基磺酸型的光亮純錫電鍍，鍍層結晶細致，均勻，呈光亮銀白色，具有良好的可焊性，適用于電子行業，鍍液具有較高的電鍍速度，較寬的電流密度范圍，較快的沉積速度，較佳的深鍍能力，經標準老化試驗或長期存放后，仍能保持良好的焊接性能，不含氟硼酸，廢水處理容易，腐蝕性低，利于環保。99%甲基磺酸主要用于生產抗生素類中間體。

甲基磺酸的濃度提高陰極極化，細化結晶，而且可以提高鍍液的導電性和分散能力，鍍層的走位會好一些。但是甲基磺酸的濃度會造成成本的升高，并且電鍍過程中會產生大量的氣體。

技術方面，甲基磺酸傳統合成工藝主要有甲基磺酰氯水解法、硫酸二甲脂法、鹵甲烷法、醋酸法、甲硫醇法、KSCN合成法等。這些工藝共有缺點為：產品分離相對困難，產生的硫酸較多，且帶有很大的環境污染。目前，我國甲基磺酸生產企業主要采用甲基磺酰氯水解法來制備甲基磺酸。此方法原料易得，工藝簡單，產品質量優良，成本低廉，適合工業化應用。

隨著我國環境保護和削減生產過程中有毒有害物質的產生方面政策的逐步落實，電鍍、表面處理等污染大、耗能高的行業，對于毒性低、對設備腐蝕性小、可生物降解、對環境友好的甲基磺酸產品需求大增，大大促進了甲基磺酸行業的發展。